次世代半導体ナノデバイス開発を実現するためには、ナノスケールに微細化された表面・界面に関する抜本的な技術的ブレークスルーが必要とされる。特に、ナノスケールに薄膜化された界面構造の形成・制御、ゲート絶縁膜に用いる高品質な高誘電体薄膜の材料探索、ナノ界面構造での電気伝導特性の解明は、シリコンナノデバイス発展の鍵を握っている。

また、シリコンナノデバイスの他にも、様々なナノ構造で初めて発現する新奇な機能の探索、その機能を実現するためのナノ構造制御に関する知見が必要である。

本サブテーマでは、第一原理計算手法を主な解析手法として用いて、ナノ構造の形成・構造・物性・機能を高精度に解析・予測できるシミュレーション・システムを開発することを目的とする。